光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的，它是由一种特殊的化工合成材料，通过专用设备瞬间发出强光辐射，使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。光敏印章的面世可以说是印章行业的一次革命，完全颠覆了传统印章的凹凸成像。特点：自带印油，印迹清晰美观，即印即干，可反复注油。
